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7nm+EUV 相关话题

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台积电近日宣布,曾经开端了7nm+ EUV工艺的大范围量产,这是该公司乃至整个半导体产业首个商用EUV极紫外光刻技术的工艺。作为EUV设备独一提供商,市场预估荷兰ASML公司籍此EUV设备年增长率将超越66%。这个目的能否能完成?EUV工艺在开展过程中面临哪些应战?产业化进程中需求打破哪些瓶颈? EUV设备让摩尔定律再延伸三代工艺 光刻是集成电路消费过程中最复杂、难度最大也是最为关键的工艺,它对芯片的工艺制程起着决议性作用。193nm浸没式光刻技术自2004年年底由台积电和IBM公司应用以来,
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