7nm+EUV工艺大规模量产，EUV光刻机销量有望走高
2024-07-27台积电近日宣布，曾经开端了7nm+ EUV工艺的大范围量产，这是该公司乃至整个半导体产业首个商用EUV极紫外光刻技术的工艺。作为EUV设备独一提供商，市场预估荷兰ASML公司籍此EUV设备年增长率将超越66%。这个目的能否能完成?EUV工艺在开展过程中面临哪些应战?产业化进程中需求打破哪些瓶颈? EUV设备让摩尔定律再延伸三代工艺 光刻是集成电路消费过程中最复杂、难度最大也是最为关键的工艺，它对芯片的工艺制程起着决议性作用。193nm浸没式光刻技术自2004年年底由台积电和IBM公司应用以来，