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美国存储芯片巨头美光公司宣布了一项重大决策，计划率先引入日本佳能公司的新型纳米压印（NIL）光刻机，旨在通过这一创新技术，进一步降低生产DRAM（动态随机存取存储器）的成本。此举不仅有望为美光带来竞争优势，也可能对整个半导体行业产生深远影响。 在日前举办的演讲中，美光公司详细介绍了纳米压印技术在DRAM生产中的应用及其优势。随着DRAM制程技术的不断进步，Chop层数不断增加，传统的浸润式曝光技术在解析度上遇到了瓶颈。为了取出密集存储阵列周围的虚置结构，需要增加更多的曝光步骤，这不仅增加了生产

据1月30日消息，佳能现在已经公布了其2022财年的最新财务报告。在今天的财报电话会议上，佳能表示，2022年将售出176台芯片半导体步进机，较上年同期增加36台。该公司表示，计划在2023年销售195台半导体芯片步进机。 2022年12月6日，佳能宣布将于2023年1月初发布i-line步进机“F PA—5520 iV LF2 Option”。 作为半导体器件后期制作工艺的半导体曝光设备的新产品，该步进机可通过拼接曝光实现0.8μm高分辨率和100×100mm超广角曝光，通过叠层实现3D技术

10月17日消息，近日光刻机大厂佳能（Canon）公司近日通过新闻稿宣布，其已经开始销售基于“纳米印刷”（Nanoprinted lithography）技术的半导体芯片生产设备 FPA-1200NZ2C。佳能表示，该设备采用不同于复杂光刻技术的方案，可以制造5nm半导体芯片。 最近，光刻机大厂佳能（Canon）公司近日通过新闻稿宣布，其已经开始销售基于“纳米印刷”（Nanoprinted lithography）技术的芯片生产设备 FPA-1200NZ2C，这套生产设备的工作原理和行业巨头