12月20日，荷兰光刻龙头ASML计划在未来几个月内推出制造2nm芯片的光刻机，并计划在2024年生产10台。最新设备的光能将从0.33提高到0.55（High-NA），使晶圆制造商能够使用超精细的微影技术制造2nm芯片。ASML计划在未来几年将产能提高到每年20台。

据报道，英特尔已经购买了其中6台，预计每台售价将超过3亿美元。这台新一代机器被认为是高贵的-NA EXE:英特尔是世界上第一个下单的客户，5200(0.55NA)。High-NA技术是2nm以下逻辑晶圆制造的关键。

ASML预计将于2025年首次投入使用，并将其打造成2026-2030年的主要产品。

另一方面，三星电子总裁李在镕最近与ASML达成协议， 亿配芯城 在韩国共同投资约7.62亿美元建造一家研究EUV光刻机的工厂。三星表示，它已经高了-NA 优先供应EUV光刻机，计划在2025年底生产2nm芯片。

此外，日本先进芯片制造商Rapidus计划于2024年底在北海道千岁市的2nm工厂引进EUV设备。Rapidus预计将在2023年确保约300名员工，并派遣约100名工程师到合作伙伴IBM、ASML，学习EUV设备技术。

目前，ASML是世界上唯一一家生产7nm及以下工艺芯片的EUV光刻机公司。但由于供不应求，此类设备年产量仅为40~50台。

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